基于pid自动控制的原位薄膜外延沉积系统(202510110713)
· 2025-09-27
申购单主题: 基于PID自动控制的原位薄膜外延沉积系统
申购单位: 材料学院
| 设备名称 | 品牌 | 型号 | 数量 | 报价类型 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 基于PID自动控制的原位薄膜外延沉积系统 | 基元科技 | Micro-STS1200D | 1.0 | 进口免税价/人民币 | |||
| 售后服务 | |||||||
| 规格 | 薄膜沉积热台为可更换反应腔体的管式设计，高气密性，拥有两个独立温区，两个观察窗口；观察孔尺寸Φ8mm，设备尺寸220×85×50 mm，热场尺寸80×10×10 mm；工作温度RT-1050℃，最大升降温速率100 ℃/min，额定功率0.8 kW； 反应腔体方形腔体部分尺寸80x11x11mm（外径），材料紫外石英，透光范围200~2500nm；高温送料器行进距离80mm；载物坩埚氧化铝材质，一体设计，可正/倒放置透明或非透明衬底。正面放区域尺寸4.8*18mm，倒扣放置区域尺寸4.25*4.8mm；控温精度±0.5℃，温度显示精度±0.1℃，通讯接RS485，波特率1 | ||||||
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